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加权建模是必要的,微分建模是重要的,把二者结合起来,进行加权微分建模既必要也重要.给出了常用模型的微分建模结果,讨论了加权建模中的计算和权重选择问题,探讨了加权微分建模的思路和方法,并结合典型数据验证了该方法的有效性和稳定性.象加权建模一样,加权微分建模的精度、实用价值等,是和权重确定得合理与否紧密相联;应先进行模拟,以与近期实际值或典型样本相差最小的参数所对应的模型为准. 相似文献
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Based on solving the couple mode equation numerically, the characterization of the signal power on the gate power was analyzed. And the relationship of the tolerance of the grating period and the bulk temperature on the interaction length was analyzed. 相似文献
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Each convex planar set K has a perimeter C, a minimum width E, an area A, and a diameter D. The set of points (E,C, A1/2, D) corresponding to
all such sets is shown to occupy a cone in the non-negative orthant of R4with its vertex at the origin. Its three-dimensional cross section S in the
plane D = 1 is investigated. S lies in a rectangular parallelepiped in R3. Results of Lebesgue, Kubota, Fukasawa, Sholander, and Hemmi are used to
determine some of the boundary surfaces of S, and new results are given for the other boundary surfaces. From knowledge of S, all inequalities among
E, C ,A, and D can be found. 相似文献
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将稀土配合物Eu(asprin)_3phen掺杂到导电聚合物PVK中,制成结构分别为ITO/PVK:RE配合物/LiF/AI(1),ITO/PVK:RE配合物/PBD/LiF/AI(2)的电致发光(EL)器件。发现二者的电致发光谱存在着较大的差别:在器件(1)中,来自Eu~(3 )的位于594nm(~5D_0→~7F_1)和614nm(~5D_0→~7F_2)处的发光强度大致相当,而在器件(2)中,EL主要来自Eu~(3 )位于614nm的发光,594nm处的发光很弱,与薄膜状态下的光致发光谱(PL)一致。并针对此现象进行了初步讨论。 相似文献
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ZHOU Ming-Xiua② YANG Chuna DENG Xiao-Yana YU Wei-Feib LI Jin-Shanb a 《结构化学》2006,25(6):647-652
1 INTRODUCTION Silicon and its alloy have been widely applied in such fields as electronic industry, high-temperature structural ceramics, etc. In addition, the researches on silicon and its relevant materials greatly promote the rapid development of modern optics and infor- mation technology. Therefore, more and more at- tention is focused on the structure of silicon, oxide of silicon and the interfaces between silicon and metal or nonmetal. As an ideal passive film on the Si surface, S… 相似文献
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100.